【半導体】東芝とSK Hynix、ナノインプリント半導体露光技術を共同開発
東芝は2月5日、SK Hynixと次世代半導体露光技術であるナノインプリントリソグラフィ(NIL)の開発を加速させるため、2014年12月に基本合意した共同開発について、正式契約を締結したと発表した。NILは、メモリのさらなる微細化を進める上で欠かせない次世代半導体露光装置の候補の1つである。
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