【技術】半導体の限界を打ち破る新世代の“真空管”が開発
CPUなどのトランジスタはムーアの法則に従って半導体の製造プロセスが縮小されてきた。それに合わせて性能も上げてきたが、今後、さらなる縮小は技術的により困難になり、いずれは物理的な限界を迎える。実際、最先端を行くIntelでさえ、縮小サイクルがここへ来て長期化し始めている。そういった中、米カリフォルニア大学サンディエゴ校の研究者らは7日(現地時間)、半導体を使わない光学制御によるマイクロエレクトロニクスデバイスを開発したと発表した。
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