【半導体】東芝、次世代ナノインプリント露光装置を新工場に導入 三次元メモリー製造コスト削減
東芝は2017年度にも、キヤノンと共同開発した次世代半導体露光装置をNAND型フラッシュメモリーの量産ラインに採用することを決めた。「ナノインプリント露光(用語参照)」技術を使った装置で、量産での利用は電機業界初。東芝はメモリーの製造コスト低減の切り札と位置づけ、経営再建の柱であるメモリー事業の収益力向上につなげる。
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