【技術】レーザー照射するだけで簡単に銅配線が形成できる技術を開発
芝浦工業大学(東京都港区/学長 村上雅人)応用化学科の大石知司教授は、特定の銅錯体にレーザーを当てるだけで簡単に銅配線が形成でき、電子デバイスの製造プロセスを大幅に簡略化できる技術を開発しました。酸化が進行してしまうために困難だった通常環境(大気中)での銅の処理を可能とし、数 10~200μm 幅の微小な配線形成ができるものです。
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芝浦工業大学(東京都港区/学長 村上雅人)応用化学科の大石知司教授は、特定の銅錯体にレーザーを当てるだけで簡単に銅配線が形成でき、電子デバイスの製造プロセスを大幅に簡略化できる技術を開発しました。酸化が進行してしまうために困難だった通常環境(大気中)での銅の処理を可能とし、数 10~200μm 幅の微小な配線形成ができるものです。
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