OIST、消費電力従来比1/10以下のEUVリソグラフィー半導体製造技術を提案沖縄科学技術大学院大学(OIST)は7月29日、小型のEUV光源でも動作し、消費電力が従来の10分の1以下にまで減らせる、これまでの先端半導体製造の...

韓国機械研究院、400nm級の超微細半導体回路リソグラフィ装置を国産化韓国科学省傘下の韓国機械研究院(KIMM)が、韓国で初めて400nm(ナノメートル)級のレーザー直接描画(リソグラフィ)装置の国産化に成功した。半導体...

サムスンの新しいチップ製造法が実用化の段階に入った。今後スマートフォンや機器の高速化や省エネ化に役立つだろう。サムスンは韓国で現地時間10月18日、極端紫外線(EUV) リソグラフィを利用するLPP(Low Power Plus...

IBMが5nmプロセスのチップ製造に成功、世界初のEUVリソグラフィ実用化へ「半導体の集積密度は18カ月で2倍になる」という経験則の「ムーアの法則」が成り立たなくなっているとささやかれている半導体製造で、IBMが世...

東芝とSKハイニックスが、ナノインプリントリソグラフィ(NIL)技術で共同開発を開始する。NILは、回路パターンが掘られた型(モールド)をシリコンウエハーに直接押し当てて転写するもので、より微細な加工ができると期...