中国はすでにバッテリーとディスプレイ分野で韓国を越えたとの声が多く聞かれるようになった。「最後の砦」の半導体もやはり中国に追い越されそうな状況だ。韓国経済の中枢である先端戦略産業が風前のともしびの危機...

半導体メーカーの「ラピダス」はことし4月から試作品の製造を始める予定で、先端半導体の国産化を目指して、まずは試作ラインの稼働を軌道に乗せられるかが焦点になります。ラピダスは、自動運転の機能やAI=人工知能...

先端半導体向けEUV露光装置の大幅な省エネ実現 沖縄科技大 人工知能(AI)など大量の情報処理が求められる先端半導体の製造に欠かせない「EUVリソグラフィー(極端紫外線露光装置)」の大幅な省エネやコスト削減を図る技...

OIST、消費電力従来比1/10以下のEUVリソグラフィー半導体製造技術を提案沖縄科学技術大学院大学(OIST)は7月29日、小型のEUV光源でも動作し、消費電力が従来の10分の1以下にまで減らせる、これまでの先端半導体製造の...

次世代半導体製造に用いるEUV露光の要、阪大教授が30年前に開発した「CLBO結晶」とは?大阪大学の森勇介教授(名古屋大学教授を兼務)は30年前に「CLBO結晶」を開発した。同結晶は紫外レーザーの波長変換素子として、今...

韓国化学メーカーがEUVレジスト用高純度溶剤の開発に成功、韓国メディア報道著者:服部毅 韓国の電子・半導体産業用薬剤メーカーであるChemitronicsが半導体のEUV露光などの工程で使用されるフォトレジストの有機溶剤...

韓国企業がついにEUV用フォトレジストを国産化か⁉…日本の輸出規制品　有力紙報じる 韓国企業がサムスン電子の強力なバックアップにより極紫外線(EUV)フォトレジスト(PR)の開発に成功したとの報道が出ている。...

サムスン電子の副会長がASMLを電撃訪問 サムスン電子の李在鎔(イ・ジェヨン)副会長は10月13日、オランダの半導体製造装置メーカーASMLを訪問し、同社CEOのPeter Wennink 氏およびCTOのMartin van den Brink氏らと会...

半導体製造装置のレーザーテックは5日、2021年6月期の連結純利益が前期比15%増の125億円になりそうだと発表した。半導体製造の先端技術である「EUV(極端紫外線)」関連の検査装置が伸びる。研究開発費は前期比で増や...

韓国Samsungは、モバイルデバイス向けSoC「Exynos 9825」の製品情報を公開した。業界初となる7nm EUVプロセス製造のモバイルプロセッサで、Galaxy S10で搭載された「Exynos 9820」は8nm LPPプロセス(ArF液浸露光)で...

欧州人権裁判所、ロシアを相手取った申し立てで野党指導者ナワリヌイ氏の訴えを認めるロシア 欧州人権裁判所(ECHR)は、ロシアの野党指導者アレクセイ・ナワリヌイ氏が2012年から2014年に抗議デモで拘束されたことに...

サムスンの新しいチップ製造法が実用化の段階に入った。今後スマートフォンや機器の高速化や省エネ化に役立つだろう。サムスンは韓国で現地時間10月18日、極端紫外線(EUV) リソグラフィを利用するLPP(Low Power Plus...

かつて「欧州の火薬庫」と呼ばれたバルカン半島の情勢が混沌としてきた。旧ユーゴスラビア連邦の解体で誕生した各国は欧州連合(EU)加盟を目指すが、具体的な展望はなお見えない。ロシアが影響力拡大を図る一方、経済...

IBMが5nmプロセスのチップ製造に成功、世界初のEUVリソグラフィ実用化へ「半導体の集積密度は18カ月で2倍になる」という経験則の「ムーアの法則」が成り立たなくなっているとささやかれている半導体製造で、IBMが世...

ムーアの法則をできる限り進める――TSMCが7nmプロセス向けにEUV装置を発注TSMCが、ASMLにEUV(極端紫外線)露光装置2台を発注していたことが明らかになった。TSMCは、EUVリソグラフィによって7nmプロセスの実現を目指...

オランダASML社 EUV Marketing Vice PresidentのNigel Farrar氏は「SEMICON Japan 2014」(2014年12月3日～5日、東京ビッグサイト)の「半導体エグゼクティブフォーラム」に登壇。「EUV Lithography: Growth, Industri...