【中央日報】日本の半導体「30年ぶりの雪辱戦」…「サムスンと正面勝負しない」なぜ
ベールに包まれていた「日本半導体復活の希望」ラピダスの夢が少しずつ姿を表わしている。ー中略ー
◇「30年ぶり半導体復活」狙う日本
日本は半導体の素材・部品・装備分野で世界的な企業を前面に出し30年ぶりの半導体雪辱に出た。キヤノンは最近独自開発したナノインプリントリソグラフィ(NIL)技術を使ってASMLの極端紫外線(EUV)露光装備を代替するための第一歩を踏み出した。
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ベールに包まれていた「日本半導体復活の希望」ラピダスの夢が少しずつ姿を表わしている。ー中略ー
◇「30年ぶり半導体復活」狙う日本
日本は半導体の素材・部品・装備分野で世界的な企業を前面に出し30年ぶりの半導体雪辱に出た。キヤノンは最近独自開発したナノインプリントリソグラフィ(NIL)技術を使ってASMLの極端紫外線(EUV)露光装備を代替するための第一歩を踏み出した。
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