【半導体】ASMLがEUV露光装置の開発状況を説明、量産導入は「10nm世代の論理LSIから」
オランダASML社 EUV Marketing Vice PresidentのNigel Farrar氏は「SEMICON Japan 2014」(2014年12月3日～5日、東京ビッグサイト)の「半導体エグゼクティブフォーラム」に登壇。「EUV Lithography: Growth, Industrialization & Beyond」と題し、EUV露光装置の開発の進捗について説明した。
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