【半導体】ムーアの法則をできる限り進める――TSMCが7nmプロセス向けにEUV装置を発注
ムーアの法則をできる限り進める――TSMCが7nmプロセス向けにEUV装置を発注TSMCが、ASMLにEUV(極端紫外線)露光装置2台を発注していたことが明らかになった。TSMCは、EUVリソグラフィによって7nmプロセスの実現を目指すとみられている。2015年末には7nmプロセスを適用したチップのリスク生産が開始される可能性がある。
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