【半導体工学】高電圧耐性・低損失性を併せ持つ次世代パワーデバイス材料を開発 NEDOなど
酸化ガリウムエピウエハの断面構造と写真
表面粗さと成長温度の関係
キャリア濃度とドーパント原料セル温度の関係NEDOプロジェクトの成果を活用して、情報通信研究機構、東京農工大学、(株)タムラ製作所らの研究チームは、次世代パワーデバイス材料として有望な酸化ガリウムエピウエハの開発に成功しました。
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酸化ガリウムエピウエハの断面構造と写真
表面粗さと成長温度の関係
キャリア濃度とドーパント原料セル温度の関係NEDOプロジェクトの成果を活用して、情報通信研究機構、東京農工大学、(株)タムラ製作所らの研究チームは、次世代パワーデバイス材料として有望な酸化ガリウムエピウエハの開発に成功しました。
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