【半導体】韓国機械研究院、400nm級の超微細半導体回路リソグラフィ装置を国産化
韓国機械研究院、400nm級の超微細半導体回路リソグラフィ装置を国産化韓国科学省傘下の韓国機械研究院(KIMM)が、韓国で初めて400nm(ナノメートル)級のレーザー直接描画(リソグラフィ)装置の国産化に成功した。半導体の生産性を飛躍的に向上させることができる技術として期待を集めている。KIMMの研究チームは、400nmレベルの微細な焦点を毎秒40mm速度で移動し、基板上にコーティングされたレジストを加工することができるレーザーリソグラフィ装置を開発した。
