【技術】韓国化学メーカーがEUVレジスト用高純度溶剤の開発に成功、韓国メディア報道
韓国化学メーカーがEUVレジスト用高純度溶剤の開発に成功、韓国メディア報道著者:服部毅
韓国の電子・半導体産業用薬剤メーカーであるChemitronicsが半導体のEUV露光などの工程で使用されるフォトレジストの有機溶剤を構成する「プロピレングリコールメチルエーテル酢酸(PGMEA)」を高純度(純度99.999%)で生産することに成功したと複数の韓国メディアが報じている。
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韓国化学メーカーがEUVレジスト用高純度溶剤の開発に成功、韓国メディア報道著者:服部毅
韓国の電子・半導体産業用薬剤メーカーであるChemitronicsが半導体のEUV露光などの工程で使用されるフォトレジストの有機溶剤を構成する「プロピレングリコールメチルエーテル酢酸(PGMEA)」を高純度(純度99.999%)で生産することに成功したと複数の韓国メディアが報じている。
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